单片式光清洗设备 – SHIBAURA
Single Wafer Photomask Wet Cleaning Equipment
在半导体使用的Photomask制造工艺中，对Photomask表面附着的Particle采用药液或DIW进行清洗的设备。
高性能
采用高效的高温药液清洗，
自主研发的超声波清洗系统达到高效的清洗能力
Metal Free的结构，保证优秀的耐药性
低COO
单片式Spin清洗，减低DIW和药液的使用量
占地面积小
扩展性
可追加SPIN Unit，UV Unit，IPA Dry Unit。
可对应各类通讯系统